EUVL.

2019年,铸造件开始使用极端紫外线(EUV)光刻的极端紫外线(EUV)光刻。当时,ASML'S的Twinscan NXE扫描仪足够好生产,但完整的EUV生态系统并不完全。影响EUV的事情之一是缺乏用于光掩模的防护薄膜,这有限使用EUV工具和受影响的产量。幸运的是,由于最近的生产准备好的euv薄片引入,薄膜的情况终于改善了,并且在未来几年内必须更好地达到更好的事情。 保护宝贵的睾丸 ASML在近年来的Twinscan NXE EUV光刻工具中取得了很大进展,提高了光源的性能,可用性时间和生产力。它的行业同行也做了......

台长: We have 50% of All EUV Installations, 60% Wafer Capacity

将中央信息之一覆盖到TSMC’本周技术研讨会是该公司是半导体制造业的世界领导者,特别是在前沿过程中......

32 经过 伊恩博士蝉联 on 8/27/2020

三星在2021年生产DDR5(用EUV)

三星正在追踪下一年开始批量生产DDR5和LPDDR5内存的批量生产,该制造技术将利用极端紫外线(EUVL)。在...

20 经过 安东斯谢洛夫 on 3/25/2020

台长 &Broadcom开发1,700 mm2电流插入器:比标题大2倍

随着晶体管的缩小和对HPC齿轮的减慢和需求增长,截至较晚的芯片解决方案的兴趣较大,芯片溶液大于墨西哥尺寸

18 经过 安东斯谢洛夫 on 3/4/2020

三星在V1的大规模生产:7nm,6nm,5nm,4nm,3nm节点的专用EUV Fab

三星铸造厂在其新的V1工厂使用其6LPP和7LPP制造工艺开始批量生产芯片。新设施雇用了一个行业’s first...

29 经过 安东斯谢洛夫 on 2/20/2020

ASML斜坡上升欧盟扫描仪生产:2020年35年,2021年最多50次

ASML将26个极端的紫外线(EUVL)扫描系统去年向其客户运送到客户,而该公司计划将出货量增加到2020年的35左右。和斜坡......

22 经过 安东斯谢洛夫 on 1/23/2020

台长 Boosts CapEx by $1 Billion, Expects N5 Node to Be Major Success

台长 is on track to begin high-volume production of chips using its 5 nm technology in the coming months, the company said in its conference call last week. While...

40 经过 安东斯谢洛夫 on 1/22/2020

台长: 5nm on Track for Q2 2020 HVM, Will Ramp Faster Than 7nm

台长’S 5 NM(N5)制造技术预计会在涉及性能,电力和面积缩放方面提供显着的好处,这就是为什么半导体的合同制造商......

27 经过 安东斯谢洛夫 on 10/23/2019

EUV需求起来:EUV设备制造商ASML击败销售估计

在智能手机革命,云计算和事物互联网之间,对尖端芯片的需求从未如此高。如果你对此有任何疑问,那么......

46 经过 安东斯谢洛夫 on 10/16/2019

三星的咄咄逼人的EUV计划:6nm生产在H2,5nm& 4nm On Track

三星铸造机正式开始使用其7LPP(7纳米低功率加)制造过程来生产芯片,以来并没有减缓其制造技术的发展......

42 经过 安东斯谢洛夫 on 7/31/2019

三星完成了5nm EUV工艺技术的开发

三星铸造本周宣布,它已完成其第一代5个NM制造过程的开发(以前称为5LPE)。制造技术采用极端紫外线(EUVL)和......

21 经过 安东斯谢洛夫 on 4/17/2019

2019年发货30 euv扫描仪的ASML:即将到来的EUV工具更快

ASML上周表示,它计划于2019年发货30款极端紫外扫描仪,从2018年显着上升。该计划并不令人惊讶,因为对EUV光刻的需求......

17 经过 安东斯谢洛夫 on 1/28/2019

台长 Kicks Off Volume Production of 7nm Chips

台长 last week announced that it had started high volume production (HVM) of chips using their first-gen 7 nm (CLN7FF) process technology. The contract maker of semiconductors says it...

63 经过 安东斯谢洛夫 on 4/24/2018

英特尔将Fab 42装备7纳米

英特尔本周宣布计划在线将其Fab 42在线生产使用7 NM制造过程来生产半导体。它需要三到四年,而......

24 经过 安东斯谢洛夫 on 2/9/2017

EUV光刻取得了良好的进步,仍然没有准备好奖金时间

在近期年度SPIE先进的光刻大会上,英特尔,台积电和其他领先的半导体公司表示,在极端的紫外线(EUVL)中已经在...中完成了重要的进展。

38 经过 安东斯谢洛夫 on 3/10/2016

登录

没有帐户? 立即注册